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效率更高的从大气到大气的卷绕式台州真空镀膜机已于1977年出售随着计测技术、控制技术的进步和电子计算机的应用

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-12-08 6:18:54 * 浏览: 3

台州真空镀膜一般蒸镀室要达到的真空度为1x10-3Pamdash,2times,10-3Pa,而工作压力为1times,10-2Pamdash,2times,10-2Pa,而卷绕室真空度通常较蒸镀室低一个数量级有时卷绕镀膜机以增扩泵(油扩散泵的一种)为主泵,它的极限压力虽然不及油扩散泵,但其抽速范围向高压方向延伸一个数量级,非常适宜此类蒸发的镀膜过程。    目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发,其材质有氮化硼、石墨、钼等。氮化硼由于电学及热学性能好,使用寿命长,因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kWmdash,8kW,加热电压为10Vmdash,12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚,800mm时7只坩埚,1300mm时12只坩埚。坩埚分布是不均匀的,中间部分间距大些,在基材边缘处间距小,有的z*外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。。

台州PVD镀膜从蒸镀材料方面来讲,蒸发源应能够蒸镀Al、Ti、Fe、Co、Cr及其合金,以及Si0、Si02、MgF、ZnS等。

台州纳米喷涂效率更高的从大气到大气的卷绕式台州真空镀膜机已于1977年出售随着计测技术、控制技术的进步和电子计算机的应用,卷绕式台州真空镀膜机正向着高度自动化和高度可靠性的方向发展。卷绕式台州真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2mu,m,可以在这个范围内选择,有的还可以镀多层膜,满足多种需要。日本专利提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室(6)分为上室(7),左下室(8)和右下室(9)。蒸镀时,两组蒸发源(19、23)蒸发的镀膜材料(21、25)分别沉积在塑料薄膜(11)上,在塑料薄膜没有蒸镀的一侧,装上辉光放电发生器(、16)。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜,用于制磁带和薄膜太阳能电池等。该装置示意图见图1图1改进的卷绕式蒸镀装置近年来,高速低温溅射法发展很快,使高熔点金属如铬、钛、钨、钼等的沉积成膜成为可能。镀膜室直径1400mm,高2200mm的大型钟罩式溅射镀膜机和长mm,宽7.6mm的大型串列式溅射镀膜机已投入使用。最近,日本专利提出一种卷绕式溅射镀膜机,该机可镀两种不向的镀膜材料,并在溅射区和第二溅射区之间装温度控制装置(),加强对基材的冷却,保证在镀膜层较厚和沉积速度较快的情况下,基材不会发生卷缩和变形。

台州纳米真空电镀 这样就在中空阴极内产生低压等离子体,直流放电电压约为100V~150V,电流只有几个安培一旦氨气被电离,等离子体中正离子就会不断地轰击阴极钽管。当钽管上有8段受热达到工作温度2300K-2400K时,即可出现热电子发射,使放电转变到稳定状态,电压下降到30Vmdash,50v,同时使等离子电子束流增大到一定值。这时由空心阴极内引出的高密度等离子电子束在电场的作用下射向膜材,膜材被加热到蒸发温度,开始蒸发而沉积到基片上成膜。    这种蒸发源有如下特点:    a.空心阴极放电可形成密度很高的等离子体;且通过阴极的气体可大部分被电离。    b.阴极工作温度可达3200K,蒸发原子通过等离子区时,被等离子激发电离,其离化率可达20%。    c.阴极不易损坏,寿命较长;   d.可在气体辉光放电区内工作;稳定工作压力为1Pamdash,10-2Pa。如果将工件加数十伏、数百伏负高压,使金属离子向工件轰击制膜,膜的附着强度好,如通入反应气体可制备化合物膜(如TiN,TiC等)。    e.结构简单。    f.低电压、大电流下工作,所以使用安全、易于自动控制。    ②HCD枪的结构:    HCD枪的典型结构如图10-7所示。

台州五金烤漆阴极靶接几百伏的负电位,镀膜室壁接地,辅助阳极接地或接几十伏的正电位,基片通常接地(可以悬浮或偏压)环状磁体在阴极靶表面形成曲线形磁场,与电场构成正交电磁场。电子在电磁场中作摆线加螺旋线的复合运动,导致异常辉光放电。    辅助阳极能够吸收低能电子,减少电子对基片的轰击。水冷套与靶材之间应具有适当的配合间隙:当靶工作时,由于受热而紧紧地与水冷套贴在一起,保证散热效果;当靶不工作时,二者之间保持一定间隙,以便能够方便地更换靶材。可拆卸屏蔽环能够防止非靶材构件的溅射,并且可以拆卸下来清除沉积其上的膜层。其余构件的作用与其它磁控靶的构件相同。。

真空室内装有一对孪生平面磁控钛靶,供电的溅射电源规格是30kVA、40kHz先抽真空至6times,10-3Pa,工件架转动,然后充一定比例的Ar和O2。调节各种参数,进行溅射镀膜5min。    (8)真空镀铬膜:用阴极电弧离子镀设备镀覆。先抽真空至6times,10-3Pa,工件架转动,充入Ar至真空度为1.5times,10-1Pa。开启铬靶电源,调节各种参数,离子镀膜3min。然后关闭Ar源,在高真空下离子轰击镀1.5min。    (9)真空镀钛氧化物面镀层:其工艺与步骤(7)相同。    (10)检验和包装。    经上述工序的涂镀,ABS塑料汽车轮毂盖具有如下优良性能:    表面色泽:与台州电镀铬一致;划格镀层的附着力(百格):100/100;铅笔硬度:1~2H;CASS试验:gt,96h。可见,本研究产品性能显著优于真空镀铝产品,也优于台州电镀铬产品。

台州真空镀膜设备型号编制方法:

  航天设备有的要在超高真空、射线辐照、高温下工作,在这种恶劣环境下,一般液体润滑剂已无能为力,而航天发动机的功率及其结构相寿命,与诸如摩擦、磨损、磨蚀、腐蚀、气蚀、高温氧化、渗漏和疲劳有直接关系,因此迫切需要固体润滑膜用真空蒸镀、离子镀、溅射三种方法获得的固体润滑膜已在航空航天设备的各种仪器、齿轮、螺丝、轴承以及滑动部件中得到广泛应用。作为防腐涂层,离子镀Al已成功用于飞机、宇宙飞船的各种异型部件,代替氢脆敏感的台州电镀Cr层和在太空中易挥发的涂层。潮湿试验表明,离子镀铝抗蚀层远比台州电镀镍和台州电镀金性能优越。    在电子学方面,台州真空镀膜技术是集成电路向高集成度、高性能、高可靠和高生产率发展的重要保证。有人估计,大规模集成电路有一半工序必须在真空条件或真空设备中进行,而在研制超大规模集成电路时,所需真空工艺和设备则占了75%以上。  在能源科学方面,正在研究的有各种结构的薄膜太阳能电池,如非晶硅、III-V族(如CaAs)、Ⅱ一Ⅳ族化合物(如Cds-Cu2S)薄膜太阳能电池等。CdS-Cu2S薄膜太阳能电池具有工艺简单、成本低廉的特点,是一种有希望在地面大量应用的太阳能电池。在便宜的基板上真空沉积一层InP、CaAs等多晶半导体的薄膜,可用于太阳能电池或地面用太阳能发电系统。在石英玻璃基板上真空沉积一层SnO2、In2O2、CaO筹金属氧化物的薄膜,可用作太阳能集光器。  在受控热核反应堆的试验装置中,一些高熔点,低原子序数材料的镀层(如TiB2、B3C、TiC等)用于高温和表面保护。

当用惰性气体氩离子及氖离子轰击靶材时,由于能量不同,溅射产额亦不同    表10-8给出了500eV的离子溅射产额。    各种溅射方法镀膜原理及特点由表10-9给出。。

主要用于半导体器件制造上表10-20给出了绝缘膜种类、制作方法及用途。图10-31为热壁反应室结构简图,减压装置的工作压力为10Pa~1000Pa。。